一、仪器简介

X射线表面分析系统（XPS）是利用用X射线照射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。对半导体、金属及光刻胶等各类导电及非导电材料的表面的化学组成、价态深度剖析及成像、功函数特性的分析与表征。

二、仪器参数

型号：ThermoFisherScientific Nexsa G2

能量分辨率≤0.5 eV

计数率≥6.5Mcps

极限真空度优于5×10-9 mbar

样品台尺寸：60 mm×60 mm

刻蚀模式：Ar+源，包含单离子刻蚀和团簇刻蚀两种模式

三、工艺能力

对半导体、金属及光刻胶等各类导电及非导电材料的表面的化学组成、价态深度剖析及成像、功函数特性的分析与表征。

四、样品要求

1.最大测试样品尺寸：60mm×60 mm

2.粉末样品需压片处理

3.要求原子百分比含量在0.1%以上

五、结果展示

GaAs                                                                  GaN